はじめての半導体リソグラフィ技術(現場の即戦力) [単行本]
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はじめての半導体リソグラフィ技術(現場の即戦力) [単行本]

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出版社:技術評論社
販売開始日: 2011/12/09
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はじめての半導体リソグラフィ技術(現場の即戦力) の 商品概要

  • 目次(「BOOK」データベースより)

    1章 半導体集積回路の発展とリソグラフィ技術
    2章 光リソグラフィ技術
    3章 電子線リソグラフィ技術
    4章 X線・EUVリソグラフィ技術
    5章 その他のリソグラフィ技術
    6章 マスク技術
    7章 レジスト技術
    8章 計測評価技術
    9章 リソグラフィ技術の課題と今後の展望
  • 著者紹介(「BOOK著者紹介情報」より)(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)

    岡崎 信次(オカザキ シンジ)
    1970年東京工業大学理工学部電子工学科卒業。1970年(株)日立製作所中央研究所に入所。1980年より1年間米国Rensselater Polytechnic Instituteに留学。1994年東京工業大学より工学博士授与。1995年日立製作所半導体事業部、1998年同社デバイス開発センターに異動、同年中央研究所に戻りASETに出向、EUV研究室室長としてEUVリソグラフィ技術の研究に従事。2002年ASET、EUVプロセス技術研究部部長に就任し、2006年日立中研に戻る

    鈴木 章義(スズキ アキヨシ)
    1973年東京大学物理工学専門課程修士修了。1973年キヤノン(株)に入社。現在、NGL推進統括部、キヤノンフェロー、SPIEフェロー。1984年光学論文賞、1985年機械振興協会賞、2005年新機械振興会賞。1991年東京大学より工学博士授与

    上野 巧(ウエノ タクミ)
    1979年東京工業大学大学院理工学研究科博士課程修了(理博)。1979年(株)日立製作所中央研究所に入所。1995年同社日立研究所、2001年日立化成工業(株)総合研究所、2002年日立化成デュポンマイクロシステムズ(株)、2005年より日立化成工業(株)筑波総合研究所主管研究員

はじめての半導体リソグラフィ技術(現場の即戦力) の商品スペック

商品仕様
出版社名:技術評論社
著者名:岡崎 信次(著)/鈴木 章義(著)/上野 巧(著)
発行年月日:2012/01/10
ISBN-10:477414939X
ISBN-13:9784774149394
判型:A5
対象:専門
発行形態:単行本
内容:電子通信
ページ数:301ページ
縦:21cm
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