はじめての半導体リソグラフィ技術(現場の即戦力) [単行本]

はじめての半導体リソグラフィ技術(現場の即戦力) の 商品概要

• 目次（「BOOK」データベースより）

  １章　半導体集積回路の発展とリソグラフィ技術
  ２章　光リソグラフィ技術
  ３章　電子線リソグラフィ技術
  ４章　Ｘ線・ＥＵＶリソグラフィ技術
  ５章　その他のリソグラフィ技術
  ６章　マスク技術
  ７章　レジスト技術
  ８章　計測評価技術
  ９章　リソグラフィ技術の課題と今後の展望

• 著者紹介（「BOOK著者紹介情報」より）（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）

  岡崎 信次(オカザキ シンジ)
  １９７０年東京工業大学理工学部電子工学科卒業。１９７０年（株）日立製作所中央研究所に入所。１９８０年より１年間米国Ｒｅｎｓｓｅｌａｔｅｒ　Ｐｏｌｙｔｅｃｈｎｉｃ　Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅに留学。１９９４年東京工業大学より工学博士授与。１９９５年日立製作所半導体事業部、１９９８年同社デバイス開発センターに異動、同年中央研究所に戻りＡＳＥＴに出向、ＥＵＶ研究室室長としてＥＵＶリソグラフィ技術の研究に従事。２００２年ＡＳＥＴ、ＥＵＶプロセス技術研究部部長に就任し、２００６年日立中研に戻る
  
  鈴木 章義(スズキ アキヨシ)
  １９７３年東京大学物理工学専門課程修士修了。１９７３年キヤノン（株）に入社。現在、ＮＧＬ推進統括部、キヤノンフェロー、ＳＰＩＥフェロー。１９８４年光学論文賞、１９８５年機械振興協会賞、２００５年新機械振興会賞。１９９１年東京大学より工学博士授与
  
  上野 巧(ウエノ タクミ)
  １９７９年東京工業大学大学院理工学研究科博士課程修了（理博）。１９７９年（株）日立製作所中央研究所に入所。１９９５年同社日立研究所、２００１年日立化成工業（株）総合研究所、２００２年日立化成デュポンマイクロシステムズ（株）、２００５年より日立化成工業（株）筑波総合研究所主管研究員

はじめての半導体リソグラフィ技術(現場の即戦力) の商品スペック