はじめての半導体ドライエッチング技術 改訂版 (現場の即戦力) [単行本]
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はじめての半導体ドライエッチング技術 改訂版 (現場の即戦力) [単行本]

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出版社:技術評論社
販売開始日: 2020/10/24
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はじめての半導体ドライエッチング技術 改訂版 (現場の即戦力) の 商品概要

  • 目次

    1 章 半導体集積回路の発展とドライエッチング技術
    1.1 ドライエッチングの概要
    1.2 ドライエッチングにおける評価パラメータ
    1.3 LSI の高集積化にドライエッチング技術が果たす役割

    2 章 ドライエッチングのメカニズム
    2.1 プラズマの基礎
    2.2 イオンシースおよびイオンシース内でのイオンの挙動
    2.3 エッチングプロセスの組み立て方

    3 章 各種材料のエッチング
    3.1 ゲートエッチング
    3.2 SiO2 エッチング
    3.3 配線エッチング
    3.4 まとめ

    4 章 ドライエッチング装置
    4.1 ドライエッチング装置の歴史
    4.2 バレル型プラズマエッチャー
    4.3 CCP プラズマエッチャー
    4.4 マグネトロンRIE
    4.5 ECR プラズマエッチャー
    4.6 ICP プラズマエッチャー
    4.7 ドライエッチング装置の実例
    4.8 静電チャック

    5 章 ドライエッチングダメージ
    5.1 Si 表層部に導入されるダメージ
    5.2 チャージアップダメージ

    6 章 新しいエッチング技術
    6.1 Cu ダマシンエッチング
    6.2 Low-k エッチング
    6.3 ポーラスLow-k を用いたダマシン配線
    6.4 メタルゲート/High-k エッチング
    6.5 FinFET エッチング
    6.6 マルチパターニング
    6.7 3D NAND/DRAM 用高アスペクト比ホールエッチング
    6.8 3D IC 用エッチング技術

    7 章 アトミックレイヤーエッチング(ALE)
    7.1 ALE の原理
    7.2 ALE の特性
    7.3 ALE シナジー
    7.4 EPC およびスパッタ閾値を支配するパラメータ
    7.5 SiO2 ALE
    7.6 まとめ

    8 章 ドライエッチング技術の今後の課題と展望
    8.1 ドライエッチングにおける技術革新
    8.2 今後の課題と展望
    8.3 エンジニアとしての心構え

    ※上記の「SiO2」の「2」は下付きです。
  • 内容紹介

    「はじめての半導体ドライエッチング技術」 が出版 されてから 8年以上経過しましたが、半導体 の微細化・高集積化の進展は留まるところを知らず、次々新しい技術が出現しています。本書は、アトミックレイヤーエッチング(ALE)など新しい技術の解説や、ドライエッチング技術の今後の課題・展望についてなど、旧版に大幅に加筆訂正を行いました。
  • 著者紹介(「BOOK著者紹介情報」より)(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)

    野尻 一男(ノジリ カズオ)
    1973年群馬大学工学部電子工学科卒業。1975年群馬大学大学院工学研究科修士課程修了。1975年(株)日立製作所入社。2000年ラムリサーチ(株)入社、取締役・CTOに就任。2019年独立し、ナノテクリサーチ代表として技術および経営のコンサルティングを行っている。1989年「有磁場マイクロ波プラズマエッチング技術の開発と実用化」で大河内記念賞を受賞。1994年「低温ドライエッチング装置の開発」で機械振興協会賞通産大臣賞を受賞。2019年DPS Nishizawa Awardを受賞
  • 著者について

    野尻一男 (ノジリ カズオ)
    1973年 群馬大学工学部電子工学科 卒業
    1975年 群馬大学大学院工学研究科修士課程 修了
    1975年 (株)日立製作所入社。半導体事業部にてCVD,デバイスインテグレーション,ドライエッチングの研究開発に従事。特にECRプラズマエッチング,チャージア
    ップダメージに関して先駆的な研究を行った。また技術開発のリーダーとして
    数々のマネージメントを歴任。
    2000年 2000年 ラムリサーチ(株)入社,取締役・CTOに就任。
    2019年 独立し,ナノテクリサーチ代表として技術および経営のコンサルティングを行っている。
    <主な受賞>
    1989年 「有磁場マイクロ波プラズマエッチング技術の開発と実用化」で大河内記念賞を受賞
    1994年 「低温ドライエッチング装置の開発」で機械振興協会賞通産大臣賞を受賞
    2019年 DPS Nishizawa Awardを受賞
    <主な著書>
    「先端電気化学」(丸善)共著

はじめての半導体ドライエッチング技術 改訂版 (現場の即戦力) の商品スペック

商品仕様
出版社名:技術評論社
著者名:野尻 一男(著)
発行年月日:2020/11/05
ISBN-10:4297115999
ISBN-13:9784297115999
判型:A5
対象:専門
発行形態:単行本
内容:電子通信
言語:日本語
ページ数:188ページ
縦:21cm
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